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ALD前驱体工艺控制

前驱体材料是原子层沉积工艺的基础,目前用于原子层沉积的前驱体包括无机类和金属有机类二种,无机类在沉积速率、稳定性、膜质量等方面存在一些问题,应用会逐渐减少。金属有机类特别是液态金属有机物是开发的重点。前驱体生产过程的控制,对产品的质量稳定性提供了保证,我司产品研制过程控制如下(分别是制备、纯化、分析):

 

时间:2019-05-17