什么是ALD前驱体？

   ALD前驱体是原子层沉积工艺中的关键原材料，通过气相化学反应在基底表面逐层形成单原子膜。其核心特点是携带目标元素并以气态、易挥发液态或固态形式存在，需具备化学热稳定性和可控的反应活性。

   1 挥发性与稳定性需在低温下具有高挥发性，且不发生自分解（避免转化为CVD工艺）。

   2 反应性适中既能与基底表面反应，又不会因过度反应导致热解或蚀刻基底。

   3 低毒性与低粘度‌：确保工艺安全性和效率。